ISSN:1005-3026

ВЛИЯНИЕ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ КИСЛОРОДА НА ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПЛЕНОК Ո-РƄTe

Коканбаев И.М

к.ф.-м.н., доцент.Кокандского государственного педагогического инстштута, Узбекистан.

     Ионная имплантация кислорода при­водит к уменьшению электро­про­вод­нос­ти ( )пленок. Уменьшение электропроводности и холловской концен­трации ектронов ( ) имплантированных пленок  при отжиге в ва­ку­уме. При термоотжиге на воздухе интенсивность уменьшения электропро­водности в пленках и имплантированных, и неимплантированных кислоро­дом гораздо выше, чем при отжиге им­план­­­­тированных образцов в вакууме